这个要求非常合理。
大佬们纷纷点头，世人常常以为，上海微电子是国家队负责搞光刻机项目的，其实不对，13.5nm的极紫外光刻机，一直由长春光机所负责攻坚，代号02专项。
所谓光刻机02专项，总体架构是这样的。
清华大学和帝都华卓精科，他们两家负责双工件台系统，目前项目进度比较快，已经基本解决了所有问题，因此，华夏成为是世界上第二个掌握该项技术的存在。
而第一个拿下双工件台的是荷兰ASML，他们的Twinscan技术，已经投产数年时间了，被证明性能可靠。
浙江大学流体动力与机电系统实验室，与浙江启尔机电，这两家负责沉浸式光刻机的浸液系统，目前已经基本完成，是继荷兰asml和日本尼康之后，全球第三家掌握该项技术的存在。
准分子激光光源，是中科院光电研究院负责的，传闻目前只能做到40w功率，而荷兰asml采用的光源，功率在2019年就达到了250w，这方面差距还是比较大的。
至于荷兰asml的光源供应商，是北美Cymer和日本Gigaphoton。
最后也是最重要的光学系统，由长春光机所负责物镜，上海光机所负责照明，项目进度未知。
至于荷兰asml的物镜和照明，来自大名鼎鼎的德国蔡司。
凡是了解摄影的人，应该都知道蔡司的镜片水准有多高，当然了，普通消费者多数并不知道，其实卡尔蔡司集团，还有半导体部门。
由此可见，所谓全球最强的荷兰asml光刻机，背后其实是标准的万国造，将全世界所有顶级技术堆在一起，才组成了asml极紫外光刻机。
因此，华夏光刻技术要挑战的不是asml，而是全世界。
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